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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[外观设计]裤子（仿生设计图案应用）-CN201630458856.3有效
发明人：宋瑞萍;丁梦姝;王雪;张巧玲;郭锐 -专利权人：宋瑞萍
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： 02-02 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称裤子（仿生设计图案应用）。2.本外观设计产品的用途本外观设计产品用于穿着的服装。3.本外观设计产品的设计要点在于该外观设计产品的图案及色彩的结合。4.最能表明设计要点的图片或者照片主视图。5.省略视图说明该外观设计产品省略其他视图。6.该外观设计产品请求保护色彩。
裤子仿生设计图案应用

[发明专利]利用自对准双图案化工艺对晶圆进行图案化的方法-CN201510006948.2有效
发明人：郑文奎 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2015-01-07 - 公布日： 2019-08-30 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：本发明提供了利用自对准双图案化工艺形成晶圆的图案的方法和布局设计方法。所述形成晶圆的图案的方法包括：准备具有第一设计图案、第二设计图案和设置在第一设计图案与第二设计图案之间的第三设计图案的初始布局；利用计算机从初始布局中提取包括第一设计图案的第一子布局和包括第二设计图案的第二子布局；利用计算机形成包括通过修改第一子布局的第一设计图案获得的第一修改的设计图案的第一修改的子布局；利用计算机产生包括第一修改的子布局和第二子布局的修改的布局；以及利用修改的布局执行双图案化工艺。
利用对准图案化工进行方法

[发明专利]单侧刻蚀偏差测量方法及设备-CN202010395638.5在审
发明人：孟阳;王兴荣;王良;王伟斌;刘庆炜 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2020-05-12 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种单侧刻蚀偏差测量方法及设备，所述单侧刻蚀偏差测量方法包括基于同一坐标系的第一设计图案和第二设计图案，以及分别与所述第一设计图案和所述第二设计图案相对应的第一检测图案和第二检测图案；将所述第一检测图案定位于所述第一设计图案，将所述第二检测图案定位于所述第二设计图案；将所述第一检测图案和所述第二检测图案设置于同一坐标系。
刻蚀偏差测量方法设备

[发明专利]沉积掩模-CN201110456767.1有效
发明人：小林郁典;高政佑;李相信;姜择教 -专利权人：三星移动显示器株式会社
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉积掩模包括由于施加到沉积掩模的拉力而沿行方向和列方向对包括第一初始设计图案和第n初始设计图案在内的第一初始设计图案至第n初始设计图案进行校正得到的第一校正图案至第n校正图案，第一初始设计图案至第n初始设计图案沿第一方向顺序地布置，其中，第一校正图案至第n校正图案的最外侧包括沿与第一方向平行的方向延伸的第一最外侧和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外侧，其中，第一最外侧具有第一曲率并且相对于第一初始设计图案和第n初始设计图案向内凹进，第二最外侧具有第二曲率并且相对于第一初始设计图案至第n初始设计图案向外凸出。
沉积

[发明专利]使用防抛光图案形成半导体器件的方法-CN201910278642.0在审
发明人：李洋熙;朴钟爀;裵珍宇;申忠燮;吴孝真;尹普彦;尹一永;全喜淑 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2019-04-08 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：一种形成半导体器件的方法，包括：在衬底上形成设计图案，其中，设计图案从衬底突出；在衬底上形成填充层，其中，填充层至少部分地覆盖设计图案；使用激光照射工艺和/或离子注入工艺在填充层中形成与设计图案相邻的防抛光图案；以及使用化学机械抛光(CMP)工艺去除填充层以暴露出设计图案。
设计图案填充层衬底半导体器件抛光化学机械抛光激光照射工艺离子注入工艺图案形成去除图案暴露覆盖

[发明专利]用于图案化配置的方法和系统-CN201780073895.3有效
发明人： V·维拉恩基;陈炳德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2017-11-13 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法，包括：获得具有多个设计图案多边形的器件设计图案布局；由计算机自动识别所述器件设计图案布局中的多边形的单位单元；识别所述器件设计图案布局内所述单位单元的多次出现以构建层级；和由所述计算机通过将设计用于所述单位单元的光学邻近校正重复地应用至所述层级中的所述单位单元的所述出现从而对所述器件设计图案布局执行光学邻近校正
用于图案配置方法系统

[发明专利]圆二色性偏振器件的设计方法及装置、设备、介质-CN202310214274.X在审
发明人：曹良才;高云晖 -专利权人：清华大学
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本公开涉及一种圆二色性偏振器件的设计方法及装置、设备、介质，所述方法包括获取圆二色性偏振器件的目标设计层的第一设计图案，第一设计图案用于指示第一迭代计算过程中目标设计层的初始折射率分布，第一迭代计算过程表示任意一个迭代计算过程；基于第一设计图案进行电磁场仿真获得目标函数关于折射率分布的梯度，目标函数为左旋圆偏振透过率与右旋圆偏振透过率之间的差值；沿着梯度方向，以目标函数最大化为目标，更新第一设计图案，重复上述步骤进行迭代计算，直至获得目标设计图案，目标设计图案为二值化图像。根据本公开实施例能够得到具有任意形状的设计图案，提高了设计自由度和设计效率。
圆二色性偏振器件设计方法装置设备介质

[发明专利]载有回复反射性的设计图案的时尚产品-CN201580076920.4在审
发明人：朝山贵生 -专利权人：朝山贵生;巴罗克日本有限公司
申请日： 2015-02-26 - 公布日： 2018-01-02 - 主分类号： A41D27/08 文献下载
摘要：在时尚产品(1)的能够视觉辨认的部位形成有设计图案(10)，与设计图案(10)重合地进一步形成有另外的隐藏图案(11)，隐藏图案(11)在通常的光下使设计图案(10)透过而显现出设计图案(11)，另一方面，在光源等直射光时，通过回复性反射向光源方向显现出隐藏图案(11)。
载有回复反射设计图案时尚产品

[发明专利]带有图案的塑料眼镜框架及其制造工艺-CN201310357128.9有效
发明人：陶秀青 -专利权人：海南精功眼镜连锁有限公司
申请日： 2013-08-16 - 公布日： 2013-11-27 - 主分类号： G02C11/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种带有图案的塑料眼镜框架及其制造工艺，包括塑料镜圈、通过铰链装置与所述塑料镜圈相铰链的左、右侧塑料眼镜腿，在所述塑料镜圈的正面或背面贴合有镜圈设计图案层，而在所述左、右侧塑料眼镜腿的外侧表面或内侧表面上则分别贴合有左、右镜腿设计图案层；或者，在所述眼镜塑料镜圈的中间夹层设有镜圈设计图案层，而在所述左、右侧塑料眼镜腿的中间则分别地夹层设有左、右镜腿设计图案层，其中，所述镜圈设计图案层的以及所述镜腿设计图案层的两面印有相同或不相同的图案本发明所述塑料眼镜框架具有便于生产、色彩与图案多样、图案清晰且不易脱落的特点。
带有图案塑料眼镜框架及其制造工艺

[实用新型]带有图案的塑料眼镜框架-CN201320499973.5有效
发明人：陶秀青 -专利权人：海南精功眼镜连锁有限公司
申请日： 2013-08-16 - 公布日： 2014-12-03 - 主分类号： G02C11/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种带有图案的塑料眼镜框架，包括塑料镜圈、通过铰链装置与所述塑料镜圈相铰链的左、右侧塑料眼镜腿，在所述塑料镜圈的正面或背面贴合有镜圈设计图案层，而在所述左、右侧塑料眼镜腿的外侧表面或内侧表面上则分别贴合有左、右镜腿设计图案层；或者，在所述眼镜塑料镜圈的中间夹层设有镜圈设计图案层，而在所述左、右侧塑料眼镜腿的中间则分别地夹层设有左、右镜腿设计图案层，其中，所述镜圈设计图案层的以及所述镜腿设计图案层的两面印有相同或不相同的图案本实用新型所述塑料眼镜框架具有便于生产、色彩与图案多样、图案清晰且不易脱落的特点。
带有图案塑料眼镜框架

[发明专利]一种产品外观设计的智能批量合成方法-CN202111498071.5在审
发明人：李泉林;李宁;黄歆媛 -专利权人：厦门市虹约产品设计有限公司
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G06Q30/06 文献下载
摘要：一种产品外观设计的智能批量合成方法，步骤如下：建立设计图案数据库，用于存储设计图案及其属性；将用户的个人数据合成一个向量，通过余弦相似算法找到一批相似用户；读取该用户以及相似用户的设计作品记录，找出设计图案的属性，并生成一个向量，通过余弦相似算法从设计图案数据库找到一批相似的设计图案；将相似的设计图案合成到产品的空白样版上，生成设计作品。本发明不局限于某一类产品，可以为更大范围的产品提供外观设计的智能批量合成服务，大大提高了应用范围；设计师省去了从各种图片平台上搜索并挑选出合适图案的工作，工作负担大大减轻，可以服务更多的顾客，因此也降低了双方的成本
一种产品外观设计智能批量合成方法

[发明专利]用于设计光掩模的系统和方法-CN202180000880.0在审
发明人：董明;张雷 -专利权人：长江存储科技有限责任公司
申请日： 2021-03-19 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：公开了用于设计光掩模的系统和方法。在示例中，提供设计图案。由至少一个处理器创建具有与设计图案相对应的模拟图案的虚拟光掩模。优化模拟图案，以使要在半导体衬底上产生的最终图案与设计图案聚合。该优化还包括通过至少一个处理器校正模拟图案的一个或多个轮廓，以使最终图案与设计图案之间的几何差异满足预定标准。该校正至少部分地基于从多个训练样本训练的模型。
用于设计光掩模系统方法

[外观设计]包装盒（胡萝卜果汁）-CN201930610200.2有效
发明人：陈雅;石建伟;张子琪;李恬 -专利权人：东北林业大学
申请日： 2019-11-07 - 公布日： 2020-05-12 - 主分类号： 09-03 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：包装盒（胡萝卜果汁）。2.本外观设计产品的用途：用于胡萝卜汁的包装以及展示销。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状、图案与色彩的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.请求保护的外观设计包含色彩。6.无具体设计图案，省略左视图;无具体设计图案，省略右视图;无具体设计图案，省略俯视图;无具体设计图案，省略仰视图。
包装胡萝卜果汁

[发明专利]用于测量晶片上的图案布置误差的方法和系统-CN201810353449.4在审
发明人：金庆燮 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2018-04-19 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：一种用于测量晶片上的图案布置误差(PPE)的方法包括接收光掩模图案。一个或多个单位单元图案被添加到光掩模图案。每个单位单元图案包括至少一个参考设计图案和至少一个PPE检查设计图案。光掩模由其上添加有一个或多个单位单元图案的光掩模图案制造。使用所制造的光掩模对晶片进行图案化。获取图案化晶片的显微镜图像。测量至少一个参考设计图案和至少一个PPE检查设计图案之间的位移作为图案布置误差。
设计图案图案布置光掩模图案测量晶片单元图案多个单位光掩模图案化晶片显微镜图像单位单元掩模图案参考接收光图案化晶片制造测量检查图案

[发明专利]用于机器学习辅助的光学邻近误差校正的训练方法-CN202210691732.4在审
发明人：苏静;卢彦文;罗亚 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-09-05 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种方法包括：获得用于训练设计图案(5000)的在空间上移位版本的光学邻近校正；和使用关于所述训练设计图案的在空间上移位版本的数据(5051；5053)以及基于用于所述训练设计图案的在空间上移位版本的光学邻近校正的数据(5041；5043)来训练机器学习模型(5200)，所述机器学习模型配置成针对设计图案预测光学邻近校正。
用于机器学习辅助光学邻近误差校正训练方法

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